進(jìn)入雙相不銹鋼中的氫在與材料中的殘余應(yīng)力或外加應(yīng)力的協(xié)同作用下,會(huì)給金屬的性能造成一定的損傷,即所謂的氫損傷。這種傷害可以是暫時(shí)的,即在氫逸出鋼材后,受損傷的性能可以恢復(fù);損傷也可以是永久的,即對(duì)性能的損傷是不可逆的,在氫離開金屬后性能仍不可恢復(fù)。1976年,Hirth 和 Johnson在大量研究的基礎(chǔ)上把氫損傷分為七類,即氫脆(HE)、氫蝕(HA)、氫鼓泡(blistering)、發(fā)紋或白點(diǎn)(shatter cracks、fisheyes)、顯微穿孔(microperforation)、流變性能退化和形成金屬氫化物(hydride).其中,氫脆是最常見的一類,它又可以分為氫應(yīng)力開裂、氫環(huán)境脆化和拉伸延性喪失三種。


  雙相不銹鋼的脆可分為兩類:第一類氫脆的敏感性隨形變速度的提高而增加,第二類氫脆的敏感性隨形變速度的提高而降低。兩類氫脆的主要差別是前者在材料加載荷前已經(jīng)存在氫脆源,后者在加載荷之前并不存在氫脆源,而是由于氫與應(yīng)力產(chǎn)生交互作用后才形成的。


第一類氫脆表現(xiàn)有以下三種情況:


  1. 氫蝕(Hydrogen Attack)


   主要表現(xiàn)在石油高壓加氫及液化石油氣的設(shè)備中。其作用機(jī)理是在300~500℃溫度范圍內(nèi),由于高壓氫與雙相不銹鋼中碳作用在晶界上生成高壓CH4而使材料脆化。


  2. 白點(diǎn)


   在重軌鋼及大截面鍛件中易出現(xiàn)這類氫脆。這是由于鋼在冷凝過程中氫溶解度降低而析出大量氫分子。它們?cè)阱懺旎蜍堉七^程中形成高壓氫氣泡,在較快速度冷卻時(shí)氫來不及擴(kuò)散到表面逸出,于是在高壓氫分子和應(yīng)力(熱應(yīng)力或組織應(yīng)力)的共同作用下造成白點(diǎn)等缺陷。采用緩冷或在鋼中加入稀土、V、Ti等元素可減輕這類氫脆。


 3. 氫化物氫脆


  由于IVB族(Ti、Zr、Hf)和VB族(V、Nb、Ta)金屬極易生成氫化物,而導(dǎo)致脆性。因?yàn)闅浠锸且环N脆性相,它與基體存在較弱的結(jié)合力,且二者間的彈性和塑性均不同,因此在應(yīng)力作用下形成脆斷。


 第二類氫脆(可逆性氫脆)


  是近年來最活躍的研究領(lǐng)域。這是由靜載荷持久實(shí)驗(yàn)所產(chǎn)生的脆斷。含氫材料在持續(xù)應(yīng)力作用下,經(jīng)過一定孕育期后形成裂紋,存在一個(gè)亞臨界裂紋的擴(kuò)展階段,當(dāng)外界應(yīng)力低于某一極限值時(shí),材料將長(zhǎng)期不斷裂,此極限值與疲勞極限十分相似。


  可逆性氫脆(滯后破壞)的發(fā)生與金屬的晶體結(jié)構(gòu)無關(guān)。其共同特征是:只在一定溫度范圍內(nèi)發(fā)生(100~100℃);氫脆敏感性與形變速度有關(guān),形變速度越大,敏感性越小,當(dāng)超過某一臨界速度,則氫脆完全消失,氫脆斷口平滑,多數(shù)是沿晶斷裂??赡嫘詺浯嗫梢栽诤瑲涞牟牧现邪l(fā)生(內(nèi)部氫脆),也可在含氫介質(zhì)中發(fā)生(環(huán)境氫脆),二者實(shí)驗(yàn)條件不同,但表現(xiàn)出的氫脆特征是相同的。環(huán)境氫脆內(nèi)容十分廣泛,環(huán)境介質(zhì)除H2、H2S、H2O外,還有各種碳?xì)浠衔锛案鞣N水溶液。因此,廣義的環(huán)境氫脆包括各種水溶液的應(yīng)力腐蝕。氫對(duì)金屬機(jī)械性質(zhì)最重要而普遍存在的是氫脆,這意味著金屬中充入一些氫后對(duì)負(fù)載-時(shí)間函數(shù)關(guān)系上引起機(jī)械失效所需功的減小。這種減少可表現(xiàn)為拉伸(應(yīng)變)限度的減小而引起失效、金屬可承受的靜負(fù)載量的減少、負(fù)載-非負(fù)載循環(huán)次數(shù)的減少或表現(xiàn)為破裂傳播速率的增加。重要的是要認(rèn)識(shí)到氫的這種效應(yīng)依賴于下列復(fù)雜并相互作用的方式,對(duì)于給定的合金組分,這些因素有純凈度、雜質(zhì)分布、微結(jié)構(gòu)和相分布、以前的機(jī)械歷史(如形變的程度和種類)、表面化學(xué)和幾何學(xué)(如凹坑)等。對(duì)某些金屬(如高強(qiáng)度鋼)不足百萬分之一的氫含量就足以引發(fā)災(zāi)難性的氫脆。而對(duì)另一些金屬(如Nb、Ta),嚴(yán)重的氫脆在氫濃度足夠高到形成氫化物時(shí)才會(huì)發(fā)生。